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  • 光刻胶过滤

  • 光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶， 就实现了电路图从掩模到硅片的转移。光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到极致，同时严控过滤产品的金属离子析出。最强耐腐蚀全氟滤芯采用进口PTFE膜，进口PTFE支撑层，全氟骨架经过特殊结构设计而制成适用于光刻胶的终端过滤。
  • 主要特点
  • 天然疏水性、耐腐蚀
    广泛的化学相容性
    绝对孔径确保有效过滤
    每支滤芯通过完整性检测
  • 0571-87022016
    • 详细信息 在线留言
    材料结构 操作条件 绝对过滤精度(um)
    滤材: 疏水聚四氟乙烯膜
    内芯: 聚丙烯
    外罩: 聚丙烯
    端盖: 聚丙烯
    垫片/O型圈: 硅橡胶、三元乙丙、氟橡胶、包四氟
    密封技术: 热熔焊接
    		 工作温度：≤80℃
    可耐最大压差：4 bar (21℃)／2.4bar (80℃)
    灭菌方法：121℃/30min蒸汽灭菌

    0.05、0.10、0.22、0.45、0.65、0.80、1.20

    有效过滤面积

    ≥0.65 m2/10〞

    生物安全性 滤芯尺寸 完整性测试
    内毒素：≤0.25EU/ml
    溶出物：≤30mg/10〞
    		 外径: 68mm
    长度: 5〞、10 〞、20 〞、30〞、40〞
    		起泡点测试（60%IPA））
    0.10um≥4.0bar
    0.22um≥3.4bar
    0.45um≥2.3bar
    应用领域

    电子行业：电子级各类酸、碱、有机试剂过滤。
    制药行业：熔媒除菌过滤、腐蚀性、强氧化性液体、有机试剂等过滤。


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